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    三星公司已开始生产制造7nm LPP晶圆

      [  中关村在线 原创  ]   作者:王众

        三星已确认已在其新的7LPP节点上开始生产晶圆。

    三星公司已开始生产制造7nm LPP晶圆
    三星公司已开始生产制造7nm LPP晶圆(图片来自:hexu)

        7nm低功耗Plus采用极紫外(EUV)光刻技术,并证明三星的Foundry可以遵循其“3nm的明确路径”的路线图。

        三星电子的销售及营销团队执行副总裁Charlie Bae表示:“随着EUV工艺节点的引入,三星在半导体行业正引领了一场无声的发展潮流。”同时,还说明了UEV流程如何实现“晶圆制造方式的根本转变”,以及在未来将帮助工厂客户提升移动和HPC产品的使用效能。

        新的7nm工艺需要5G、人工智能、企业和超大规模数据中心承载,将带动物联网、汽车等领域的发展。

        三星使用的EUV技术使用13.5nm波长的光来曝光硅晶片,与传统的氟化氩(ArF)浸没技术相比有显著提升。

        此外,对于EUV,可以制作单个掩模,以便在同一工作中ArF可能需要多达四个掩模。总体而言,与其前代的10nm FinFET相比,三星的新7nm LPP工艺具有以下优势:

    面积效率提高40%

    性能提升高达20%

    降低高达50%的功耗

    层数明显减少

    产量更高

        目前,EUV生产已经在三星位于韩国S3 Fab开始,该技术预计将在2020年实现大批量生产,预计新的EUV产能将得到保障。

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